osaka半导体FPD超洁净真空排气涡轮分子泵

1. 产品概述

TG390M 是由知的名的制造商大阪真空株式会社（Osaka Vacuum, Ltd.）研发制造的一款高性能磁悬浮涡轮分子泵。该产品采用先进的磁悬浮轴承技术，彻的底的摒弃了传统机械联轴器耦合设计，实现了真正的无摩擦、无振动运行。凭借其紧凑的机身设计、卓的越的抽气性能以及出色的节能表现，TG390M 能够满足各类高真空及超高真空环境的严苛需求，是精密制造与前沿科学研究领域的理想真空获取设备。

2. 核心特点

TG390M 在设计上融合了多项前沿技术，具备以下核心优势：

• 任意方向安装：突破传统涡轮分子泵的安装限制，支持任意方向安装，为复杂真空系统的空间布局提供了极大的灵活性。

• 紧凑尺寸与高通量：在保持小巧机身的同时，实现了极的高的抽气通量，有效节省设备占地面积，提升系统集成度。

• 节能与快速启停：采用高效节能设计，显著降低运行能耗；同时具备快速启动与停机能力，大幅缩短设备等待时间，提升生产效率。

• 无振动与无耦合运行：磁悬浮轴承技术消除了机械摩擦，实现无振动运行，且无需联轴器耦合，从根源上减少了机械磨损与维护需求。

• 智能控制与自动校准：内置自动校准功能，确保长期运行的精度与稳定性；支持转速控制，可根据实际工况灵活调节。

• 维护呼叫功能：配备智能维护呼叫系统，能够实时监测泵体状态并及时反馈维护需求，保障生产连续性。

• 国际安全标准认证：产品已通过 NRTL、SEMI-S2 及 CE 等多项国的际的权的威的安全标准认证，确保在各类工业及科研环境中的安全可靠运行。

3. 应用领域

TG390M 广泛应用于对真空环境有严格要求的行业与场景：

• 半导体与电子制造：适用于半导体生产工艺、各种电子元器件制造，以及电子枪排气、电离源排气等关键环节。

• 显示与光学技术：在 FPD（平板显示器）制造、灯具生产及光学元件生产中提供稳定的高真空环境。

• 表面工程：用于各类表面处理与表面改性工艺，确保涂层质量与工艺稳定性。

• 科研与大科学装置：服务于加速器装置、辐射设施、核聚变研究等前沿科学研究，以及各类分析、测试设备和研发实验。

• 热处理工艺：在高的端的热处理设备中提供可靠的真空保障，提升材料处理品质。

4. 技术规格

5. 控制器信息（TC010MB）

6. 使用环境条件

为确保 TG390M 的性能与寿命，请在以下环境条件内使用：

• 极限压力保障温度：10-23°C（在此温度范围内可确保达到标称极限压力）。

• 允许环境温度：

◦ 风冷型：10-32°C

◦ 水冷型：10-40°C

• 冷却水温度要求：

◦ 确保极限压力的最高水温：30°C

◦ 允许冷却水温度范围：10-35°C

7. 注意事项

• 气体兼容性：某些类型的气体可能会损坏泵体。在使用前，请务必联系 Osaka Vacuum 获取适用的气体类型列表，以确保设备安全。

• 前级泵匹配：产品规格表中的最大通量数据是在使用前级泵抽速为 320 L/min 的条件下测得的。请根据实际工艺需求合理选配前级泵，以保证系统性能。

osaka半导体FPD超洁净真空排气涡轮分子泵 TG390M 用于获取高真空、超洁净环境，具备无油、低振动、任意方向安装特点。广泛应用于半导体制造、FPD显示面板、光学元件制造、表面处理及科研测试设备，满足高精度真空排气需求。

osaka半导体FPD超洁净真空排气涡轮分子泵 TG390M 用于获取高真空、超洁净环境，具备无油、低振动、任意方向安装特点。广泛应用于半导体制造、FPD显示面板、光学元件制造、表面处理及科研测试设备，满足高精度真空排气需求。